2026 미국 ‘SPIE Advanced Lithography + Patterning’ 발표

2026년 2월 22일부터 26일까지 미국 캘리포니아주 산호세에서 개최된 ‘SPIE Advanced Lithography + Patterning’ 학회에 멀티스케일 인스트루먼트가 참가하여 연구 성과를 공유했습니다.

현지 시간 2월 25일 진행된 포스터 세션에서 본사는 초미세 패턴 공정 및 계측 분야의 혁신적인 솔루션을 제안하며 전 세계 반도체 전문가들의 주목을 받았습니다.

이번 발표는 멀티스케일 인스트루먼트가 보유한 고정밀 계측 기술의 우수성을 글로벌 시장에 입증하는 계기가 되었습니다. 특히 포스터 발표 현장에서는 관련 업계 엔지니어 및 연구원들과의 심도 있는 기술 논의가 이어졌습니다.

멀티스케일 인스트루먼트는 앞으로도 글로벌 학회 및 행사 참여를 통해 기술적 입지를 공고히 하고, 혁신적인 솔루션으로 반도체 산업의 발전에 기여하겠습니다.

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전문 : https://m.sedaily.com/amparticle/20011596